Sähköajoneuvon PM sintrattu osa

Tuotteen esittely

Tuotteen edut

Valmistautuminen

1. Lämpötilaohjelmoitu kaasu-kiinteä reaktiomenetelmä: käyttäen volframihappoa volframin esiasteena, metaania hiilen lähteenä ja pelkistävää kaasua, valmistettu erittäin hienojakoinen volframikarbidijauhe. Niistä lämpötila-ohjelmoidussa hiilihapotusmenetelmässä lämmitysohjelma on nostaa lämpötila 500 asteeseen 30 minuutissa, kuumennusnopeus on 18 astetta ·min-1 ja sitten nostaa 500 astetta 800 asteeseen 20 minuuttia ja kuumennusnopeus on 10 astetta ·min-1, Reagoi asetetussa lämpötilassa 12h ja putoaa luonnollisesti huoneenlämpötilaan metaanin suojassa.

2. Pelkistävä karbonointi kaksivaiheinen menetelmä: valmistele ensin W-jauhe volframia sisältävistä esiasteista ja sitten hiilet hiiltä sisältävillä aineilla WC-jauheen muodostamiseksi. Taulukko 3 - Menetelmä ultrahienon WC-jauheen valmistamiseksi pelkistyshiiletyskaksivaiheisella menetelmällä

3. Pelkistävä karbonointi yksivaiheinen menetelmä: toisin sanoen volframia sisältävä esiaste (kuten WO3) pelkistetään ja hiiltyy suoraan WC-jauheen tuottamiseksi. Tämä menetelmä vaatii yleensä erittäin aktiivisen volframiprekursorin valmistamisen. Jatkuva suorapelkistyshiiletysprosessi voi lyhentää prosessin virtausta, parantaa ultrahienon volframikarbidijauheen tuotannon tehokkuutta, ja samalla saadulla ultrahienolla volframikarbidilla ja sen seosjauheella on parempi tasaisuus ja pienempi hiukkaskoko. Taulukko 4 - Menetelmä erittäin hienon WC-jauheen valmistamiseksi yksivaiheisella pelkistyshiiletyksellä

4. Lisää 0,3 g volframijauhetta seokseen, jossa on 30 prosenttia H2O2:ta, isopropanolia ja vettä jaksoittaisella mikroaaltolämmityksellä, yön yli, lisää 0,7 gXC-72 hiilijauhetta, ultraäänikäsittely voidaan saada tasainen seos, nestemäinen, kuiva, jaksottaisesti Menetelmät Volframikarbidin nanokiteitä voidaan saada kuumentamalla mikroaaltouunissa muutaman minuutin ajan.

5. Kaasufaasimenetelmä:

(1) Kemiallinen höyrypinnoitusmenetelmä: Plasmaparannettuja kemiallisia höyrypinnoituslaitteita käytetään, raaka-ainekaasuina käytetään volframifluoridia (WF6), metaania (CH4) ja vetyä (H2) ja argonia (Ar) kantokaasuna. Virtausmääriä ohjataan erillisillä virtausmittareilla. Alusta on valmistettu metallista nikkelilevystä. Substraatit puhdistetaan ultraäänellä asetonilla, deionisoidulla vedellä, etanolilla ja deionisoidulla vedellä ja laitetaan kuivumisen jälkeen reaktiokammioon. Ennen kemiallista höyrypinnoitusta 100 ml vetykaasua johdettiin läpi 30 minuutin ajan kuumassa ilmakehässä oksidien poistamiseksi substraatin pinnalta. Näytteet kemiallisen höyrypinnoituksen jälkeen hehkutettiin uunissa typessä. Käyttämällä volframifluoridia ja metaania esiasteena valmistettiin pallomainen nano-volframikarbidikalvo, jonka halkaisija oli 20-35 nm plasmalla tehostetulla kemiallisella höyrypinnoituksella.

(2) Kiinteäpedikemiallinen höyryfaasimenetelmä: Punnitse sopiva määrä nano-WO3-jauhetta, aseta se tasaisesti kvartsireaktioveneeseen ja aseta kvartsireaktiovene korkean lämpötilan ruostumattomasta teräksestä valmistettuun putkireaktoriin (ψ90 cm) ja sitten reagoida putkimaiseen vastusuuniin sijoitettu ruostumaton teräs. Lämpötila nousee 540 astetta 660 asteeseen, ja tämä on H2:n pelkistysvaihe nano-WO3:a. Kun lämpötila nousee asteittain 660 asteeseen lämmönsäilytysvaiheessa, H2:n virtausnopeutta tulee säätää suuremmaksi. H2:n virtausnopeuden lisääminen auttaa poistamaan vesihöyryn ja saamaan reaktioprosessin sujumaan sujuvasti. Kun reaktiota pidettiin 660 asteessa 1,5 tuntia, kvartsireaktioveneen nano-WO3-jauhe pelkistettiin kokonaan nano- -W-jauheeksi. Tällä hetkellä H2-virtausta vähennetään, asetyleenikaasuventtiili avataan, asetyleenin virtausta ohjataan ja reaktio siirtyy hiiletysvaiheeseen. Nosta lämpötila 800 asteeseen ja pidä 800 asteessa 4 tuntia. Hiiltymisprosessin päätyttyä kvartsireaktioveneen nano- -W-jauhe muuttuu periaatteessa nano-WC-jauheeksi. Tällä hetkellä asetyleeniventtiili suljetaan ja H2:n virtausnopeus pienenee. Syötä jatkuvasti pieni määrä erittäin puhdasta H2:ta, kunnes ruostumattomasta teräksestä valmistettu reaktori on jäähtynyt huoneenlämpötilaan.

(3) Kemiallinen höyryn kondensaatiomenetelmä: Ohjaa erittäin puhdas CO-kantokaasu W(CO)6-prekursorin sisältävän haihduttimen läpi, kantokaasun virtausnopeus on 1200 ml/min, höyrystimen lämpötilaa säädetään 120 asteeseen ja sitten kantokaasu kuljettaa esiastehöyryä putkireaktorissa lämpötila-alueella 600-800 astetta CO-kaasu hajoaa CO2:ksi ja C:ksi, ja W ja C yhdistyvät noin 1000 asteessa nanovolframikarbidiksi ja lopuksi WC:n saa keräyskammiosta.

(4) Kaasufaasihiiletysmenetelmä: käytä WO3:a raaka-aineena ja metanolia hiilen lähteenä. Co/Fe-katalyytin vaikutuksesta nanomittakaavan WC voidaan saada reagoimalla 450-950 asteen lämpötilassa 1.5-4 tunnin ajan. Metanolin matalalämpötilainen katalyyttinen krakkaus otetaan käyttöön, ja metanoli tulee esilämmitysputkeen nestepumpun virtausmittarin kautta, ja esilämmitysputken lämpötilaa säädetään 300-420 asteeseen. Kun metanoli on esilämmitetty ja höyrystetty, se lähetetään katalyyttiseen krakkauslaitteeseen, ja metanolikaasu voidaan krakata 420-550 asteessa halutun reaktioilmakehän CO ja H2 saamiseksi; CO ja H2 reagoivat nano-WO3-jauheen kanssa 15-4 tunnin ajan happiatomien poistamiseksi ja nano-WC:n muodostamiseksi.

6. Nestefaasimenetelmä:

Ota puhtaat moniseinäiset hiilinanoputket, joissa on aukot (keskimääräinen sisähalkaisija 50 nm, ulkohalkaisija 100 nm, pituus noin 200 μm), upotetaan 20 ml ammoniumparavolframaattipentahydraattiliuokseen [(NH4Chemicalbook) 10W12O41•5H2O], sekoita voimakkaasti 8 astetta 20 minuutin kuluttua saatu liuos haihtui luonnollisesti huoneenlämpötilassa. Sitten se jätettiin yön yli, lämpötila säädettiin 120 asteeseen lisäkuivausta varten ja lopuksi sitä kalsinoitiin 350 asteessa 2 tuntia volframikarbidiprekursorin muodostamiseksi. Tyhjiöolosuhteissa lämpötilaa säädetään 1000-1300 asteeseen prekursorin käsittelemiseksi yksiulotteisen volframikarbidin nanorakennemateriaalin saamiseksi.

7. Kiinteäfaasimenetelmä

(1) Supercritical CO2 heat treatment method: Put 1.0g tungsten powder (purity 99%, average diameter 2μm), 2.3g metallic sodium (purity 98%), and 10.0g dry ice (purity>99 prosenttia) autoklaaviin. Laita sitten suljettu autoklaavi lämmitysuuniin, nosta lämpötila 600 asteeseen nopeudella 10 astetta/min ja pidä lämpötila vakiona 20 tuntia, sitten jäähdytä autoklaavi huoneenlämpötilaan saadaksesi musta kiinteä tuote ja käsittele musta kiinteä tuote laimealla kloorivetyhapolla natriumkarbonaatilla ja lämpökäsiteltiin sitten NaOH-liuoksen saamiseksi ja lopuksi näyte pestiin tislatulla vedellä ja kuivattiin 80 asteessa 2 tuntia, jolloin saatiin 0,2 g tuote.

(2) Polttomenetelmä: Sekoita raaka-aineet sininen volframi, natriumatsidi ja hiilimusta. Reagenssit jauhettiin tasaiseksi keraamisessa laastissa ja puristettiin sitten ruostumattomasta teräksestä valmistettuun sylinteriin. Teräslevysylinterin halkaisija on 50 mm, seinämän paksuus 1 mm ja korkeus 60 mm. Reaktiopallo painaa noin 150-170g. Polttoreaktiolaboratorio suoritetaan yleensä 2,5 MPa:n argonpaineessa. Aseta reaktiopallo lähtöaineeseen ja sytytä sitten pallon yläkannessa oleva Ni-Cr-metallilanka palamisreaktion suorittamiseksi.

(3) Suihkulämmön muunnosmenetelmä: käyttämällä lämpötilaa 250-350 aste, korkea paine 2.5-3.5 MPa ultranopealla ilmasuihkulämmön muuntomenetelmällä, tee ensin nanomittakaavan WO3-oksidijauhe ja vähennä sitä WO2.9-siniseksi volframiksi vedyllä 420-500 asteen jauheella ja käytä sitten ultranopeaa välikerrosleikkurimurskainta murskaamaan edelleen siniset volframihiukkaset ja suorita hiukkaskokojen luokittelu nopean hydrosykloniluokittimen avulla , ja erota nanosininen volframihiukkasliete jatkuvalla sentrifugilla laskeutumaan ja erottamaan suuret sinisen volframihiukkaset. Jauhe palaa ultranopeaan välikerrosleikkauskoneeseen jatkamaan leikkaamista ja murskaamista; sinisen volframileikkaus- ja murskausprosessin aikana lisätään fenolihartsin irrotusainetta peittämään nanosiniset volframihiukkaset ja H2 syötetään molempiin päihin, ja pelkistysuuni pumpataan ja tyhjennetään keskeltä Restore volframijauhetta keskimääräisellä hiukkaskoko alle tai yhtä suuri kuin 80 nm 700-740 asteessa, sekoita sitten nanomittakaavan volframijauhe nanohiilimustajauheeseen, lisää fenolihartsin irrotusaine ja sekoita ultranopealla kerrostenvälisellä leikkauskoneella valmista hiiltynyttä materiaalia. Liete, sen jälkeen, kun se on sentrifugaalisesti kuivattu, hiiltynyt alhaisessa lämpötilassa 980-1000 astetta, uunista vapautumisen jälkeen silta-aggregaatit rikotaan nopealla välikerrosleikkauskoneella, minkä jälkeen hydrosykloni luokitellaan , jatkuva keskipakosedimentaatio, alkoholin keskipakoerotus, kuivaus ja tehotaajuusilmavirtavärähtely Seulasta voidaan tehdä 15 μm:n seulan läpi WC-jauhe, jonka keskimääräinen hiukkaskoko on pienempi tai yhtä suuri kuin 90 nm ja hiukkasten muoto on lähes pallomainen .

(4) Katalyyttinen menetelmä: Kuumenna zeoliitti-HX-, -NaX-, näyte KX- ja WO3-näytettä He (99,99 prosenttia) -atmosfäärissä 200 asteessa 2 tunnin ajan, käytä sitten CO:ta (99,99 prosenttia) nopeudella 100 ml/min ja He (99,99 prosenttia) 20 ml/min 300 ~ 750 asteessa pelkistävään hiiltymisreaktioon näytteen kanssa. Tällä tavalla CO ja WO3 voivat tuottaa WC:tä alhaisemmassa lämpötilassa.

(5) Suorapelkistysmenetelmä: käytä WO3-jauhetta ja hiilijauhetta vähentämään suoraan hiiltymistä pelkistävässä ilmakehässä. Reaktio suoritettiin alumiinioksidin upotuslaitteessa.

8. Terminen hajoamismenetelmä:

Se on suhteellisen yksinkertainen menetelmä, joka ei vaadi mallia prekursorin valmistamiseksi tietyssä pinta-aktiivisessa aineessa ja sitten prekursorin paahtaminen sopivassa lämpötilassa sen hajottamiseksi yksiulotteisen nanomateriaalin saamiseksi. Esimerkiksi: sekoita PW (H3PW12O40) vesiliuos ja CTAB (C13H33N (CH3) 3Br) vesiliuos, jolloin saadaan valkoinen sakka [C21.95H41.19N1.33] 3PW12O40. Sakka hajotettiin suoraan termisesti 1000 asteessa 10 tunnin ajan WC-nanosauvojen ja WC-nanolevyjen saamiseksi.

9. Magnetronisputterointimenetelmä:

Menetelmä, jossa kantokaasu viritetään plasmana, joka pommittaa kohdetta tietyn nanorakenteen kasvattamiseksi substraatille. Esimerkiksi Si(110)-substraatille magnetronisputteroinnilla kerrostettu WCX-kalvo altistetaan lämpökäsittelylle W2C-nanolankojen saamiseksi.

Räjähtävä lämmitysmenetelmä: Erityinen menetelmä nanorakenteiden saamiseksi säätämällä kuumennusnopeutta reaktanttien nostamiseksi alhaisesta lämpötilasta korkeaan lämpötilaan hyvin lyhyessä ajassa. Esimerkiksi: ohjaa grafiitin ja volframijauheen sekoitettua jauhetta, joka kuumennetaan säteilyuunissa erittäin nopealla kuumennusnopeudella (huoneenlämpötilasta 1900 asteeseen sekunnissa) ja säilytetään 30 minuuttia ja lopuksi jäähdytetään huoneenlämpötilaan

Metallin ruiskupuristusprosessi

Havaintojärjestelmät